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大日本印刷将在京都增建45nm曝光掩膜生产线

据日经BP社报道，大日本印刷计划投资160亿烯湾科技日元，于2006年12月底在京都增建用于生产45nm工艺LSI的曝光掩膜生产线。

支持此工艺的的专用厂房位于大日本印刷所用之油类规格可参看油的规格介绍曝光掩膜制造基地、京都工厂厂区内，占地面积为1743平米，总建筑面积为5752平米。2006年12月动工，预计2008年1月可开工投产。2008年度计划实现销售额70亿日元，2010年度达到120亿日元。

大日本印刷过去一直由上福冈工厂（埼玉县）负责供尖端工艺使用的曝光掩膜的开发和生产。扩建京都工厂的目的主要是应对尖端产品需求的增长，以及分散受灾时的风险。

信息来源：雅式络

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